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技術(shù)文章

紅外線高速加熱爐的工作原理及應(yīng)用范圍

 
只有安裝在各種氣氛(例如超高真空或氣流)中的樣品才能通過紅外線jing確定位,以快速加熱樣品而不會(huì)發(fā)生接觸。

它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號(hào)。
 
 
快速升溫:gao升溫速度150℃/秒,gao1500℃約1min
清潔加熱:不用擔(dān)心熱源或電磁感應(yīng)產(chǎn)生的氣體
局部供暖:僅用紅外線照射樣品,請(qǐng)勿加熱周圍環(huán)境
可自由安裝:可以連接到各種系統(tǒng)
 
 
高速升溫和Si和SiC等樣品的退火
氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
在氫氣和氮?dú)庵屑訜峄?/td>
在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
在分析儀中加熱樣品,例如加熱的解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等。
在磁場中加熱,在非磁場中加熱
在加壓氣氛中加熱
加熱樣品
 
 
   紅外線引入加熱裝置根據(jù)應(yīng)用具有以下規(guī)格。 
  
 超高真空型它支持 10 -9 Pa的超高真空。
 高速升溫型 大溫度上升率可以實(shí)現(xiàn)150°C /秒的高速溫度上升。
 常溫加熱型 對(duì)于放置在大氣中的樣品,可以進(jìn)行點(diǎn)加熱。
 加壓氣氛類型 可以加熱壓力在10個(gè)大氣壓以下的樣品。
 特殊功能 利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降溫,負(fù)載加熱和磁場加熱。
 請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。
 CE標(biāo)志合格 我們還生產(chǎn)符合CE標(biāo)志的規(guī)范。

原理圖

 
 超高真空型GVH
 
型號(hào)名稱GVH198GVH298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200℃1400℃
 受熱面φ20毫米
 大加熱速度1℃/秒
 大極限真空5×10 -9
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 高速升溫型GV / GVL
 
型號(hào)名稱GV154GV198GVL298GVL398
 紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
 gao溫度1100℃1300℃1500℃1600℃
 受熱面φ14毫米φ20毫米
 大加熱速度100℃/秒100-150℃/秒
 大極限真空5×10 -7
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
 加壓氣氛類型GVP
 
型號(hào)名稱GVP198GVP298
 紅外燈額定值1千瓦2千瓦
 gao溫度1200℃1300℃
 受熱面 φ20毫米
 大加熱速度 100℃/秒
 大耐壓 1MPa以下
 冷水量1升/分鐘2升/分鐘
聯(lián)系人:林經(jīng)理
地址:深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002
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